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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：金屬高溫?zé)崽幚碚婵站A退火爐

  • 產(chǎn)品型號(hào)：Huace-800G
  • 產(chǎn)品廠商：華測(cè)儀器
  • 產(chǎn)品價(jià)格：0
  • 折扣價(jià)格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡(jiǎn)單介紹：
真空晶圓退火爐是在真空環(huán)境下，對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行高溫?zé)崽幚淼脑O(shè)備，主要用于消除應(yīng)力、優(yōu)化材料結(jié)構(gòu)、增加電學(xué)性能。
詳情介紹：

金屬高溫?zé)崽幚碚婵站A退火爐

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
真空晶圓退火爐是在真空環(huán)境下，對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行高溫?zé)崽幚淼脑O(shè)備，主要用于消除應(yīng)力、優(yōu)化材料結(jié)構(gòu)、增加電學(xué)性能。華測(cè)儀器經(jīng)過(guò)多年研發(fā)，推出了采用高準(zhǔn)度、高反射率拋物面搭配高性能加熱源的解決方案，在升降溫過(guò)程中仍能保持穩(wěn)定均勻的溫度場(chǎng)，可實(shí)現(xiàn)寬范圍均熱區(qū)、高速加熱與高速降溫。樣品由石英管保護(hù)，無(wú)氣氛污染，更適合半導(dǎo)體工藝使用設(shè)備的反射鏡采用高準(zhǔn)度曲率設(shè)計(jì)，通過(guò)五軸加工系統(tǒng)制造，以維持更高的反射效率。反射鏡主要分為圓形和拋物線型兩種，可滿足不同材料在不同溫度控制條件下的測(cè)試需求


參數(shù)規(guī)格
產(chǎn)品尺寸：6寸晶圓或150 x 150mm產(chǎn)品
溫度范圍：RT~800/1200/1450°C
升溫速度：＜100℃/s可編程（此溫度不含載盤(pán)的升溫速度）
＜25℃/s（SiC載盤(pán)）
溫度均勻度：±5 °C（≤ 500 ℃） 
±1 %（> 500 ℃）


公司介紹
Beijing Hua Ce Testing Instrument Co., Ltd.

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